Radiation induced oxidation of liquid alkanes as a polymer model

Y.S.Soebianto*; 勝村 庸介*; 石榑 顕吉*; 久保 純一*; 浜川 諭*; 工藤 久明; 瀬口 忠男

Radiation Physics and Chemistry, 48(4), p.449 - 456, 1996/00

https://doi.org/10.1016/0969-806X(95)00462-7

高分子のモデル化合物として液体炭化水素のヘキサデカン(CH)とスクアラン(CH)を選び、ガス発生・酸素消費・酸化生成物の分析により、ガンマ線照射による酸化を調べた。主なガス生成物は水素であった。酸素の消費量は固体炭化水素の場合よりも低く、酸化反応が連鎖的には進んでいなかった。消費された酸素の90%以上が、カルボン酸に転化していることがわかった。添加剤を加えた時の酸素消費量の変化から、液体炭化水素の酸化は、ポリマーの非晶部分の酸化をよく表していることがわかった。

化学発光分析による絶縁材料の放射線・熱劣化の評価,第2報

八木 敏明; 森田 洋右; 瀬口 忠男

DEI-93-155, p.19 - 26, 1993/12

添加剤の種類を変えたエチレンプロピレンゴム(EPR)を用い、放射線酸化後における熱酸化速度の温度依存性を化学発光分析により調べるとともに、添加剤(特に酸化防止剤)の化学発光への影響を調べた。多環状芳香族系の酸化剤は酸化防止作用とは無関係に化学発光を著しく増感させ、特に長波長側の発光を誘発させることが分かった。これはEPRの酸化で生成される、カルボニルの励起エネルギーが添加剤に移動しているものと推定された。化学発光の活性化エネルギーは添加剤の種類にさほど依存せず、50~60KJ/molであることが確かめられた。このことから化学発光分析法を用いることにより、実用環境での酸化劣化速度を推定する見通しを得た。

高レベル放射性廃液の流動床仮焼技術開発(1)

角田 直己; 佐々木 憲明; 永木 裕

PNC TN841 80-22, 104 Pages, 1980/04

PNC-TN841-80-22.pdf:6.4MB

高レベル放射性廃液を,ガラス固化体に交換するプロセスにおいて,前処理方法としての流動床仮焼法の技術的評価を行う目的で,内径4インチの小型流動床仮焼装置を用いて,模擬廃液の仮焼試験を行った。試験ではまず,動燃再処理工場で発生する高レベル放射性廃液の組成を,ORIGENコードを用いて推定し,その値から模擬廃液を合成した。次いで,主要な化合物についての熱分析や模擬廃液のルツボ仮焼により,仮焼の特性を把握した後,流動化を阻害するNaNO/SUB3の影響を除くために,種々の添加物について効果を調べた。模擬廃液の仮焼試験は(1)造粒法(2)飛び出し法(3)コーディング法の3方法について,主に仮焼炉の操作性や運転条件を把握することを目標として行った。その結果,溶融シリカを流動媒体とし,添加物として硝酸アルミニウムを用いるコーディング法が最も優れていることがわかった。なお,仮焼試験に先だち,各種の流動媒体の流動性を,ガラス製流動化試験装置により把握した。装置上の問題点としては,(1)廃液スプレーノズルの閉塞(2)オフガス中の微粉の処理(3)仮焼炉からの流動媒体抜き出しラインの閉塞が重要であり,ホットセル内での自動遠隔運転や保守に対して技術開発を要することを指摘した。